UV-LED-uitharding voor OLED-inkapseling

Organische lichtemitterende diode (OLED) -apparaten worden wenselijk gewenst en zijn de, "Toekomst van het display." Een OLED-display heeft verschillende voordelen ten opzichte van vloeibare kristallen displays (LCD) inclusief, eenvoudiger structuur, wat resulteert in een betere energie-efficiëntie, dunnere ontwerp, betere beeldkwaliteit en snellere responstijd.

Met de toegenomen vraag naar OLED-gebaseerde touchscreens, worden elektronische fabrikanten in toenemende mate wending aan UV-LED-uithardende oplossingsaanbieders voor zijn vele uitkeringen in hechtingstoepassingen voor de productie van Oled Flat Panel. Voordelen voor fabrikanten zijn hoge productiviteit, milieu veilig en vriendelijk en een betrouwbare oplossing voor hoe deze producten worden genezen.

Een van de meest opwindende functies van OLED-displays is dat ze flexibel kunnen worden gemaakt, wat essentieel is voor buigbare / opvouwbare display-apparaten - een aantrekkelijke functie voor klanten en industrieën in de nabije toekomst. Het uitharden van de inkapsingslaag van het OLED-display is essentieel om het display te voorkomen van schade als gevolg van de elementen in de loop van zijn leven.

Het werkelijke OLED-materiaal kan echter gemakkelijk worden geoxideerd door zelfs extreem kleine hoeveelheden atmosferisch vocht en zuurstof. Aldus is een barrière of afdichting die het gevoelige OLED-materiaal tegen zuurstof en water beschermt, erg belangrijk. Zoals getoond in figuur 1 hieronder wordt een afdekglas traditioneel gebruikt als inkapseling voor conventioneel stijve glazen substraat OLED. Het afdekglas moet permanent op het glazen substraat worden gebonden om de actieve OLED-lagen te beschermen. Dit wordt gerealiseerd door een epoxy aan de rand van het glas te doseren en met behulp van een UV-LED-lamp om de epoxy- en edge-afdichting de twee glazen oppervlakken te genezen.

Proces

Om een ​​weergave flexibel te maken, worden de onderste en bovenste glasplaten vervangen door flexibele substraten, en een flexibele dunne film-inkapseling (TFE) is een must. Dikte van de barrièrelaag ligt normaal gesproken in het submicro-bereik om aan de lage permeatie-eis van WVTR te voldoen < 10-6g/m2/day but retains the flexibility. The TFE consists of alternating conformal organic and inorganic layers successively fabricated to achieve low water permeability and high flexibility. While thin inorganic layers work as the barrier layers, organic layers are utilized as “decoupling” layers between inorganic layers to improve the permeation. In addition, organic layers make the structure more robust and flexible since individual inorganic layers in the organic / inorganic multiple layer structure can be kept thinner. The total structure is also more resistant to fragmentation and cracking, when organic layers act as the sealant buffer layer to smooth the substrate.

De TFE-fabricagetechnologie omvat: 1. Vitex vacuümpolymeer; 2. Inkjetdruk (organisch), sputtering (anorganisch); 3. Plasma verbeterde chemische dampafzetting (PECVD) / Atomic Layer Depositie (ALD), enz.

Het Vitex-proces resulteert in flexibele inkapsingslagen van afwisselende al2O3- en polyacrylaatlagen zoals weergegeven in figuur 3 hieronder. Terwijl de inorganische AL2O3-lagen op de Display via plasma, de organische polyacrylaatlagen worden afgezet via Flash-verdamping van het monomeer gevolgd door UV-uitharding. Het alternerende proces wordt herhaald om de meerlagige structuur te vormen.

Hoewel deze inkapselingsoplossing uitstekende prestaties toont voor flexibele apparaten, presenteert de verhoogde complexiteit vele uitdagingen voor productieproces.

Inkjet-afdrukken gebaseerde OLED-inkapseling begon te slim de op het gebied van procesoptimalisatie van chemische dampdeposities (CVD) uit te slaan in termen van procesoptimalisatie en nauwkeurigheid, wat leidt tot betere uitvoeringen en productiviteit . Er wordt beweerd dat inkjet-afgedrukte TFE-biologische interlayers een zeer hoge uniformiteit hebben die het niet-uniforme display op het oog elimineert (zogenaamde "mura"). Bovendien, omdat de verwerking van afdrukken en post-afdruk in een zeer lage H2O worden uitgevoerd en O2-omgeving, worden minder deeltjes toegevoegd door het drukproces en de vlakke ruimte van de bovenste organische laag is aanzienlijk verbeterd om de kwaliteit van de tweede anorganische laag te waarborgen.

Zoals weergegeven in figuur 4, nadat de organische laag van het vloeistoftype wordt toegepast door de inkjetmondstuk, wordt een UV-uithardingsstap gevolgd om de crosslink te vormen.

ALD-proces is ontwikkeld om zeer dunne, conforme films met controle over de dikte te produceren. Het is een sequentiaal zelf-beëindigend CVD-proces dat een high- Kwaliteitsbekleding. Het bestaat in het algemeen bestaat uit sequentiële afwisselende pulsen van gasvormige chemische voorlopers die reageren met het substraat. Tijdens elke gasoppervlakreactie (halve reacties), wordt de voorloper in een kamer onder vacuüm gepulseerd voor een aangewezen hoeveelheid tijd met het substraatoppervlak. Vervolgens wordt de kamer spoelt met een inert dragergas om eventuele niet-gereageerde precursor of reactie-bijproducten te verwijderen. Het proces wordt gefietst totdat de juiste filmdikte wordt bereikt.

ALD-proces heeft veel veelbelovende functies, maar het lijdt aan langzame afzettingspercentages. Geen UV-LED-uitharding is vereist in dit proces.